理想能源公司获得首台在线式单腔PECVD设备订单
日期:2012-09

 

由理想能源公司最新研发并成功生产的在线式单腔PECVD设备于2012年09月24日成功获得首台客户订单。

理想能源的在线式单腔PECVD(HJ-1200)适用于异质节晶体硅太阳能电池的生产或研发,其稳定、可靠的特性尤其适用于高质量异质节晶体硅电池的生产。和传统设备相比,

该设备具有如下优势:

1.创新的在线式镶嵌式沉积腔设计:在保证薄膜高质量、高重复性、高均一性、低损伤的同时,实现高产能(单腔在线设备产能>1200片/小时);

2.可叠层的产能倍增设计:为适应客户高产能要求,可实现在线式多层叠加沉积腔设计,产能亦可根据反应腔层数实现倍增;

3.甚高频技术(VHF:40MHz):甚高频技术能够有效降低等离子对基片表面的损伤;

4.优化的曲面电极与电介质层:解决了引入甚高频技术所带来的驻波效应和边缘效应的问题,使设备在低功率密度下依然保持均匀的电场分布,保证了非晶硅薄膜的低速、均匀、高质量生长;

5.无移动元器件等离子体射频功率匹配系统:传统的射频系统匹配时间约 1-3 秒,其过程具有不确定性。而我司自主研发的无移动元器件等离子体射频系统匹配时间≤0.5 秒,特别适用于高质量异质节晶体硅电池对界面钝化过程重复、稳定、可靠性高的要求;

6.镶嵌式沉积腔设计:沉积腔镶嵌在真空腔内,上下基板均有独立的加热和冷却系统,使得沉积腔环境清洁、温度均匀性高。