MOCVD简介

MOCVD技术简介

金属有机物化学气相沉淀技术(Metal Organic Chemical Vapor Deposition,简称 MOCVD),是一项制备化合物半导体单晶薄膜的技术。主要用于发光二极管的制造,MOCVD设备是光电子行业关键设备,用MOCVD 技术进行外延生长是制造外延片的核心步骤。

MOCVD工艺步骤:
  • n型氮化镓生长
  • 量子阱层生长
  • p型氮化镓生长
MOCVD生长工艺要求极高:
  • 高温 > 1100 C°
  • 极高的热均匀性和反应气体的流量均匀性
  • 精确控制化学物质的配比
  • 减少副反应发生

理想公司MOCVD设备

公司于2010年下半年开始MOCVD设备研发,理想能源设备的单腔体和全自动多腔体MOCVD集成设备都将于2011年下半年推出。

理想能源公司的MOCVD设备将为我们的客户带来更多获益:
  • 具有多种机型供客户选择:单一机台以及全自动机台组系统
  • 最高的工业量产效率及最低的成本消耗
  • 友好的用户操作界面及灵活的菜单管理系统
  • 独创的预热工艺腔体尽可能减少客户的工艺时间
  • 与客户紧密合作,使客户机台利用率最大化
  • 一流的售后服务与技术支持,以客户满意为最高宗旨